CMOS集成电路版图是集成电路设计过程中的关键环节，它涉及将电路设计转化为实际的物理布局。这一过程需要遵循特定的设计规则和工艺要求，以确保电路的功能正确性和制造可行性。版图设计的主要概念包括晶体管、互连线、接触孔、金属层等基本元素的布局，以及层次化设计方法。设计师需要综合考虑信号完整性、功耗、面积和性能等因素，通过手动或自动化工具完成版图的绘制与优化。常用的版图设计方法包括全定制设计和半定制设计。全定制设计针对高性能或特殊需求的电路，允许设计师精细调整每一个细节；半定制设计则基于标准单元或门阵列，提高设计效率。现代版图设计依赖于专业的EDA（电子设计自动化）工具，例如CadenceVirtuoso、SynopsysICCompiler和MentorGraphicsCalibre等。这些工具提供了布局、布线、设计规则检查（DRC）、电气规则检查（ERC）和版图与电路图对比（LVS）等功能，帮助设计师高效完成复杂集成电路的版图设计。掌握CMOS集成电路版图的设计方法与工具，对于从事芯片设计的工程师至关重要，它直接影响芯片的性能、可靠性和制造成本。