T/ICMTIA 5.1-2020 集成电路用 ArF 干式光刻胶

集成电路用 ArF 干式光刻胶 (T/ICMTIA 5.1-2020) 团体名称为中关村集成电路材料产业技术创新联盟

主要起草人：许从应、毛智彪、马潇、顾大公、陈伟琴、李珊珊

起草单位：宁波南大光电材料有限公司

范围：本文件适用于集成电路用 ArF 干式光刻胶。

内容简要 本文件规定了ArF干式光刻胶的要求、试验方法、检测标准及包装、运输、存储要求。