LPCVD（低压力化学气相沉积）在光伏产业中主要用于制备高质量薄膜材料，尤其是多晶硅和氮化硅薄膜。在太阳能电池制造中，LPCVD常用于沉积多晶硅发射极（如PERC电池中）或作为钝化层，通过降低表面复合速率提升电池效率。其工艺在低压环境下进行，可精确控制薄膜均匀性和厚度，减少杂质污染，确保高纯度和致密结构。此外，LPCVD也可用于制备氮化硅抗反射层，增强光吸收。相比其他技术，LPCVD设备成本较高，但薄膜质量优异，适用于高效电池量产。