RAITH150-TWO电子束曝光机是一款高精度纳米级加工设备，由德国RAITH公司研发制造。该系统采用先进的电子束光刻技术，能够在多种材料表面实现纳米级图形直写，广泛应用于半导体器件、光电子器件、纳米光子学等领域的微纳加工研究。主要技术特点：1.电子束加速电压50kV，束斑直径可达5nm以下2.配备高精度激光干涉仪定位系统，定位精度优于3nm3.最大曝光面积达150mm×150mm4.支持多种衬底材料，包括硅片、III-V族化合物、石英等5.集成场发射电子枪(FEG)，提供高亮度和稳定性电子束6.配备先进的图形处理软件，支持多种数据格式导入典型应用领域：-纳米电子器件制造-光子晶体结构加工-MEMS/NEMS器件研发-量子点阵列制备-科研机构及高校的纳米技术研究该系统以其出色的分辨率、稳定性和灵活性，成为纳米科技研究领域的重要工具。
