金属-半导体肖特基接触是半导体器件中的关键结构之一,其性能直接影响器件的电学特性和可靠性。近年来,随着微电子技术的快速发展,对肖特基接触的性能要求越来越高,相关研究也取得了显著进展。本文综述了肖特基接触的基本原理、界面特性调控方法以及最新研究进展,重点探讨了界面态、势垒高度调控、新型金属材料应用等关键问题,并对未来研究方向进行了展望,为高性能肖特基接触的设计与制备提供参考。

金属-半导体肖特基接触是半导体器件中的关键结构之一,其性能直接影响器件的电学特性和可靠性。近年来,随着微电子技术的快速发展,对肖特基接触的性能要求越来越高,相关研究也取得了显著进展。本文综述了肖特基接触的基本原理、界面特性调控方法以及最新研究进展,重点探讨了界面态、势垒高度调控、新型金属材料应用等关键问题,并对未来研究方向进行了展望,为高性能肖特基接触的设计与制备提供参考。
