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T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

发布日期:2020-05-27,实施日期:2020-08-01,下载格式PDF。
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简介

硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 (T/CNIA 0061-2020) 团体名称为中国有色金属工业协会

主要起草人:严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙

起草单位:洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业(青海)股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司

内容简要 本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于…

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